Минпромторг: Литограф 130 нм готов к испытаниям этой осенью

Глава Минпромторга Антон Алиханов сообщил, что работа над российским литографом для производства микросхем в 130 нанометров подходит к завершению. Приемочные испытания начнутся осенью, а завершение ожидается до конца года. Ведется отбор исполнителя для 90-нм литографа.

В разработке российского оборудования для производства микросхем, размерностью 130 нанометров, наблюдается значительный прогресс. Об этом сообщил журналистам Антон Алиханов, руководитель Министерства промышленности и торговли Российской Федерации.

Процесс завершения разработки литографа на 130 нанометров идет уверенно. Уже успешно протестированы российские эксимерные лазеры, которые служат источником излучения для подобных установок. В мире только США и Япония, наряду с Россией, производят такие лазеры. Этой осенью начнутся приемочные испытания самого литографа, которые планируется завершить к концу года, - заявил министр.

Также Алиханов сообщил, что техническое задание на разработку сканирующего фотолитографа с разрешением 90 нанометров уже готово, и в настоящее время ведется отбор исполнителя. Литография в микроэлектронике представляет собой процесс создания мельчайших структур на поверхности полупроводниковых материалов, из которых затем формируют микросхемы. Именно такая технология критически важна для производства, например, микропроцессоров.